Popis mechanismu růstu tenkých vrstev v prachovém plazmatu pomocí mikroskopie atomové síly

Instituce: Masarykova univerzita
Fakulta/ústav: Přírodovědecká fakulta
Další údaje o pracovišti: Ústav fyzikální elektroniky
Lektoři: Štěpánka Kelarová
Studenti: Petr Tomšej - Purkyňovo gymnázium, Strážnice, Masarykova 379, příspěvková organizace

Popis:

Prachové plazma lze použít ve vědě i průmyslu pro výrobu řady materiálů s různými vlastnostmi od dielektrik pro aplikace v mikroelektronice až po antibakteriální nanokompozity pro chirurgické implantáty. Změnou parametrů depozice můžeme ovlivnit formování nanočástic v plazmatu. Výskyt nanočástic v nízkotlakém RF výboji má vliv nejen na rychlost růstu tenké vrstvy na daném substrátu (sklo, PMMA, křemík), ale také na její výsledné vlastnosti (povrchová struktura,tvrdost, modul pružnosti atd.). Tento projekt je zaměřen na výzkum vývoje struktury tenkých vrstev na bázi hexamethyldisiloxanu (HMDSO) pomocí mikroskopie atomové síly (AFM). Cílem výzkumu je důkladný popis mechanismu růstu materiálů s nanokompozitní strukturou a určení souvislosti mezi ním a výslednými vlastnostmi vyrobených vrstev (chemická struktura, povrchové vlastnosti, mechanické vlastnosti). Předmětem výzkumu bude také vliv použitého substrátu na vlastnosti těchto organosilikonových materiálů. Získané informace pomohou optimalizovat experimentální podmínky pro výrobu povlaků pro konkrétní průmyslové aplikace. V rámci tohoto projektu získá student znalosti o výrobě materiálů pomocí plazmatu. Také se bude podrobně zabývat analýzou vzorků pomocí AFM a získá přehled o dalších metodách charakterizace tenkých vrstev (profilometrie, FTIR, nanoindentace atd.). Tato práce umožní studentovi přípravu na studium na VŠ a přispěje k rozvoji jeho budoucí kariéry.